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產(chǎn)品概述

HHV TF600真空鍍膜系統(tǒng)用于研發(fā)和生產(chǎn) HHV TF600的設計在于提高工藝等級.客戶可選擇低成本PLC控制或完全PC控制. 600mm 寬腔體可選渦輪分子泵或冷凝泵,同時可用于離子束沉積和刻蝕. 憑借 600mm寬的腔室,客戶可選擇多種沉積模式和蒸發(fā)源以達到*大的生產(chǎn)效率.


產(chǎn)品詳細
品牌概述
HHV Ltd 成立于1960年,隸屬于印度班加羅爾HHV Pvt., 是一家歷史*悠久的薄膜和真空技術公司. 該公司擁有眾多研究所,大學院校及工業(yè)生產(chǎn)客戶。近年來,HHV Pvt成為Edwards的制造商,生產(chǎn)如Auto306, Auto500 和TF600 等現(xiàn)代薄膜沉積系統(tǒng)。.
應用領域

TF600由PLC控制.
TF600帶PLC控制給予研發(fā)型客戶一套實用且低成本的工具. 工業(yè)標準觸屏式PLC在沉積工藝時控制真空系統(tǒng).
工藝控制選件可一鍵完成多層沉積工藝循環(huán).

TF600由PC控制
TF600可完全由PC控制.PC運行給予Windows的SCADA系統(tǒng)軟件. 單一界面完整設置工藝控制程序.
控制系統(tǒng)自動排序且記錄蒸發(fā)和真空數(shù)據(jù)的日志.

 

產(chǎn)品特點

HHV TF600真空鍍膜系統(tǒng)用于研發(fā)和生產(chǎn)
HHV TF600的設計在于提高工藝等級.客戶可選擇低成本PLC控制或完全PC控制. 600mm 寬腔體可選渦輪分子泵或冷凝泵,同時可用于離子束沉積和刻蝕.

憑借 600mm寬的腔室,客戶可選擇多種沉積模式和蒸發(fā)源以達到*大的生產(chǎn)效率.

技術參數(shù)

沉積工藝

  • 熱阻蒸發(fā)源,電子束蒸發(fā)源 , DC 和 RF濺射源
  • 離子束沉積和離子束刻蝕
  • 附加手動控制源
  • 石英舟
  • 完全PC控制
Auto500真空鍍膜系統(tǒng)中國代理創(chuàng)世杰科技有限公司
 
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