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HHV真空鍍膜系統(tǒng)
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產(chǎn)品名稱:
HHV/EDWARDS真空鍍膜系統(tǒng)
產(chǎn)品概述
產(chǎn)品詳細
產(chǎn)品相關(guān)
產(chǎn)品概述
HHV/EDWARDS真空鍍膜系統(tǒng)是英國Edwards公司榮譽產(chǎn)品。HHV Auto系列是一種多功能鍍膜設(shè)備,設(shè)計用于滿足科研工作者和電子顯微學(xué)家的需求。 Auto系列可配備各種真空系統(tǒng)、真空腔室和標準化工藝附件,提供一系列實驗技術(shù)以滿足現(xiàn)代化實驗室的需要。
產(chǎn)品詳細
HHV/EDWARDS真空鍍膜系統(tǒng)產(chǎn)品概述
HHV Auto系列是一種多功能鍍膜設(shè)備,設(shè)計用于滿足科研工作者和電子顯微學(xué)家的需求。
Auto系列可配備各種真空系統(tǒng)、真空腔室和標準化工藝附件,提供一系列實驗技術(shù)以滿足現(xiàn)代化實驗室的需要。
Auto3系列可選擇配置鐘罩式玻璃腔室、圓柱形玻璃腔室,也可以配置通用的FL400前開門式不銹鋼箱式腔室。FL400腔室具有額外的高度與寬度,適用于安裝較多的工藝附件。
客戶可選擇的模塊化工藝附件,包括熱阻蒸發(fā)源及其控制電源、3kW EB3電子束蒸發(fā)源、遮擋板、基片夾具以及膜厚監(jiān)控儀等。
真空系統(tǒng)由觸屏PLC控制和監(jiān)控,易于操作;高真空泵選擇包括擴散泵、渦輪分子泵、冷凝泵,并使用油封或干式泵作為支持泵。集成的具有備用電池的高真空閥門可在意外情況時保護泵和樣品。
HHV真空鍍膜系統(tǒng)產(chǎn)品特點
觸屏PLC自動控制真空系統(tǒng)
多種可選薄膜沉積源和電源
多種可選樣品夾具
多種可選真空腔室
智能高真空閥門保護泵及樣品
緊湊型設(shè)計,*小化空間占用
無需壓縮空氣
完整的**使用互鎖保護
HHV真空鍍膜系統(tǒng) 技術(shù)參數(shù)
極限真空
600 l/s 擴散泵:2×10E-7 mbar
500 l/s 渦輪泵:2×10E-7 mbar
250 l/s 渦輪泵:2×10E-7 mbar
抽真空時間
大氣壓到1×10E-5 mbar:4分鐘
大氣壓到1×10E-6 mbar:25分鐘
深圳辦地址:
深圳市寶安區(qū)翻身路
48
區(qū)理想居
A
棟
21E
電話: 86-755-61536512
傳真: 86-755-61536610
網(wǎng)址:
http://www.micropowergroup.com
郵件:bowenzhang@micropowergroup.com
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